两年时间突破光刻机是华为的“口嗨”?张汝京:差距没那么大


发布时间:2021-03-27 15:33 作者:乔宁

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两年时间突破光刻机?

两年时间突破光刻机是华为的“口嗨”?张汝京:差距没那么大

光刻机难,顶尖光刻机更难,但是难的不是光刻机本身,而是其背后10万多个零件的供应链。ASML公司的光刻机供应链几乎覆盖了全球大半个半导体产业链,可以这么说,荷兰光刻机就是全球大半个半导体产业链给“供”起来的。

虽然我们也有国产光刻机,但是就算是目前做得最好的上海微电子,目前也止步于90nm光刻机(上海微电子在日前宣布两年内可以下线28nm国产光刻机)。因此有不少网友表示,难道华为一个搞芯片设计的,两年时间就能突破光刻机?确定不是“口嗨”?

首先,华为从来没有说过自己要做光刻机。有关华为做光刻机的传闻是因为华为招聘光刻机工艺工程师引起的。但是大部分人可能都只注意到了这个职位名称带着“光刻机”三个字,却不知道这个职位具体是做什么的。

这个职位不是做光刻机,而是主要做后期的芯片封装,和芯片制造扯不上关系,和光刻机制造更扯不上关系。

两年时间突破光刻机是华为的“口嗨”?张汝京:差距没那么大

其次,两年时间突破光刻机只是一些媒体和个人的推测分析,从来没有权威人士真正说过这句话。

两年时间突破光刻机是华为的“口嗨”?张汝京:差距没那么大

如何解决光刻机问题?

解决光刻机有两大难题,既需要客观市场环境,也需要“去美化”半导体产业链。尤其是零件供应这一块,我们的差距还比较大。

首先说市场环境问题,从2011年开始,全球光刻机市场就被ASML公司、尼康、佳能统治,三家几乎占据了全球99%的光刻机市场,在高端光刻机市场已经形成了垄断。换句话说,就算我们当时做出自己的光刻机,也没有几家厂商会选择购买,这也是国产光刻机一直发展不起来的原因。

此外,需要注意的是,这三家或多或少都离不开欧美技术,也都需要看美方商务部的脸色。

其次则是“去美化”半导体产业链,目前最顶尖的EUV极紫外光刻机售价约1.2亿美元一台,由10万个以上零件组成,其中最核心也是最难攻克的零件大概有1000多个。

核心零件先不提,单单是1000多个核心零件之外的普通零件加工,就是一个无比巨大的难题。因为这些零件分布在全球大半个半导体产业链,某些零件干脆就是定制的。

不过幸运的是,现在市场环境已经改变了。以华为为例,挑选合作供应商的第一个要求就是查看对方是否拥有“去美化”供应链。至于半导体产业链这一块,近日中国半导体之父,原中芯国际创始人张汝京也公开表示“差距没那么大。”

张汝京:差距没那么大

据悉,在近日举行的中国第三代半导体发展机遇交流峰会上,中国半导体之父、原中芯国际创始人张汝京表示:“中国与海外半导体之间的差距不是那么大,我个人是很乐观的,相信是可以追得上的。”

张老先生(张汝京今年72岁)坦承,在制造设备这一块,中国的差距很大。比如光刻机,落后不止一代。但是在封装、测试这一块,中国目前已经是一流水平了。至于材料,差距也并没有想象中那么大。

根据业内相关数据统计预测,我国在硅材料领域两年内便有望达到0.18um,0.13um;在光刻胶和工艺化学品方面,两年内有望达到90nm;在电子气体,掩膜、抛光材料、靶材等方面,两年内则有望达到14nm。

而这还是正常发展情况下,如今国家已经加大投入力量。不仅正式把“集成电路”专业列为一级学科,还对15年以上,线宽25nm以下的半导体企业实施“免税10年”的鼓励。如此一来,中国半导体产业链发展的时间必将大大提升。

总结:其实相比于光刻机,更重要的是“去美化”的国产供应链。前段时间有半导体专家已经说过,目前业内外都过度夸大了光刻机的作用,一台光刻机并不能振兴整个半导体产业链(比如:很多欧美公司都不缺顶尖光刻机,但是目前制造工艺最先进的是台积电),打造国产供应链才是芯片制造的关键!

光刻机 时间 供应链

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