美国对华为科技封锁,了解芯片中光刻机产业链,国家重点投资方向


发布时间:2021-04-05 15:22 作者:黎昕

近来,美国对华为的科技封锁越来越紧迫。

主要集中在芯片产业链行业,其中的重点就是光刻机,我国重点已经开始朝这方向倾斜,国家大基金一期二期已经在进行中。

美国对华为科技封锁,了解芯片中光刻机产业链,国家重点投资方向

我国现在只是需要时间,没有中国攻克不了的难题,但是国外霸权主义是不给我们时间的,这会在全球产业链中翻起大波浪,可能会重新洗盘。

美国对华为科技封锁,了解芯片中光刻机产业链,国家重点投资方向

可能很多国人还不了解光刻机是什么,今天我来科普下芯片产业链中的光刻机到底占了多大比重

美国对华为科技封锁,了解芯片中光刻机产业链,国家重点投资方向

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);

在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程

生产集成电路的简要步骤:

利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。

一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:

模版和晶圆大小一样,模版不动。模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流 。

曝光机是生产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵,通常在 3 千万至 5 亿美元。

ASML尼康佳能欧泰克上海微电子装备SUSSABM, Inc.

光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。

位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机,分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

很多网友在计论,造原子弹难还是光刻机难,只能说各有各的技术难关吧。芯片行业中已经到了7nm,5nm,与尖端的机械技术是分不开的,有类似光刻机这类上游行业的限制,下游会处处受限。相信很快,我国一定能攻克这些难题,走在全球科技前列

华为加油,顶住压力,祖国是你坚强的后盾,不会让国内企业受到任何不公正的待遇的

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产业链 芯片 光刻机

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